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          純水設(shè)備工藝過程描述及應(yīng)用解析(二)

          來源:純水設(shè)備  作者:南京萊弗特環(huán)保科技公司  日期:2014-12-03 07:47:42  瀏覽量:746次
          【EDI設(shè)備操作說明;】
           
          EDI水處理設(shè)備操作手冊是由我司進行EDI超純水設(shè)備操作維護使用的一本操作規(guī)范。該手冊內(nèi)容涵蓋EDI設(shè)備參數(shù)及EDI操作運行維護手冊。以下為具體內(nèi)容:
           
          一、設(shè)備參數(shù)
           
          EDI 單元
           
          進水流量( m3/h) : 3.63
           
          產(chǎn)水流量 ( m3/h) : 3.30
           
          濃水流量( m3/h) : 0.33
           
          EDI 模塊型號 -LXM30X
           
          設(shè)備外形 665.3×605.5×318.4
           
          設(shè)備自重 123kg
           
          淡水接口 DN32
           
          濃水接口 DN20
           
          動力配備
           
          電壓 交流220伏特 50赫茲
           
          功率 5KW
           
          二、EDI操作運行維護
           
          EDI設(shè)備的良好的長期運行不僅依賴于系統(tǒng)的初期設(shè)計,而且取決于正確的運行和維護。這包含系統(tǒng)的初期啟動和運行過程中的啟動/停機。為了保持系統(tǒng)的長期良好運行,需要對系統(tǒng)運行數(shù)據(jù)進行定期記錄,以便日后日常運行維護。而且日常運行維護數(shù)據(jù)對于在設(shè)備故障判斷和決定采取何種措施方面有重要意義。
           
          1、啟動前的檢查通過運行反滲透裝置,將其處于回流狀態(tài)。
           
          測試EDI進水水質(zhì)的下列指標:
           
          進水水源 二級反滲透產(chǎn)水
           
          進水當量電導率(包括CO2與Si) <40μS/cm
           
          硅 <1.0 ppm 以SiO2計
           
          鐵,錳,硫 <0.01 ppm
           
          氯/氯化物 <0.02 ppm以Cl2計
           
          硬度 <1.0 ppm以CaCO3計
           
          溶解的有 機物 <0.5 ppm TOC中的C計
           
          PH 值 4-11
           
          大進水壓力 bar (1-45℃)
           
          標準流量下壓差 1.4-2.1 bar
           
          標準回收率 90-95percent
           
          高進水溫度 45℃
           
          低進水溫度 5℃
           
          直流電壓(V) 0-600
           
          直流電流(A) 0-6
           
          2、檢測流量開關(guān)動作以及相關(guān)連鎖動作是否正確(若需要的話,RO連鎖動作也需要測試
           
          3、設(shè)定報警控制值;
           
          4、初次啟動
           
          正確的EDI設(shè)備啟動對于準備將EDI投入正常運行操作和防止EDI模塊由于流量過大,水錘或電流過載而損壞是非常必要的。遵守以下程序也能有助于保證系統(tǒng)處于系統(tǒng)設(shè)計參數(shù)下運行從而獲得符合設(shè)計要求的產(chǎn)水。對于系統(tǒng)的啟動運行,系統(tǒng)運行的數(shù)據(jù)是一個重要的組成部分。在啟動EDI系統(tǒng)之前,RO系統(tǒng), EDI模塊的安裝,儀表的校正工作,其他系統(tǒng)的檢查都應(yīng)當已經(jīng)完成。接下來是推 薦的EDI系統(tǒng)啟動程序;
           
          5、EDI啟動程序
           
          在將管路連接到CEDI之前,請先確認所有前級預(yù)處理設(shè)備和管路已符合清潔要求。
           
          確保所有連接到CEDI模塊的管路連接正確, 管路已符合清潔要求。
           
          檢查所有相關(guān)的手動閥門處于正確的位置和開啟/關(guān)閉狀態(tài)。進水閥、產(chǎn)水閥、超純水箱進水閥和濃水流量控制閥處于開啟狀態(tài)。
           
          在沖洗過程中,檢查所有管路連接和閥門,確保無泄漏。如果必要的話,鎖緊連接部分。
           
          確認CEDI模塊到電源供電模塊的接線正確。
           
          啟動RO產(chǎn)水輸送泵。調(diào)節(jié)閥門開度到設(shè)計流量和設(shè)計壓力。檢查設(shè)計回收率和實際回收率。一直注意檢查系統(tǒng)壓力,同時確保系統(tǒng)運行壓力不超過模塊的高運行壓力限。
           
          在設(shè)計流量下,調(diào)節(jié)閥門直到產(chǎn)水壓力比濃水排放壓力高2-5psig。 重復(fù)以上步驟,直到系統(tǒng)運行符合設(shè)計產(chǎn)水量和濃水流量。計算系統(tǒng)回收率,與設(shè)計值比較。
           
          開啟模塊電源開關(guān),緩慢調(diào)節(jié)顯示板直流電源到需要數(shù)值。注意觀察出水水質(zhì)。
           
          記錄所有運行數(shù)據(jù)。
           
          測試所有流量限位開關(guān)和相關(guān)連鎖動作。確保當濃水循環(huán)流量不足時, EDI供電模塊斷電。
           
          繼續(xù)將CEDI處于循環(huán)狀態(tài),直到產(chǎn)水指標達到要求。 一旦EDI出水指標達標,將EDI產(chǎn)水閥(到后級水箱)打開,將EDI產(chǎn)水回流閥(到RO水箱)關(guān)閉。再次確認產(chǎn)水壓力比濃水排放壓力高2-5psig。將系統(tǒng)運行值與設(shè)計值比較;在系統(tǒng)運行穩(wěn)定后(水質(zhì)和流量),在日常運行數(shù)據(jù)記錄表中記錄運行數(shù)據(jù)。將運行模式選定在自動模式。
           
          在系統(tǒng)運行的第1周,定期檢查系統(tǒng)的運行情況以確保系統(tǒng)正常可靠的運行。
           
          【純凈水設(shè)備的運行與維護】
           
          一:純凈水生產(chǎn)設(shè)備運行注意事項
           
          在日常運行中提出了以下要求,防患于未然:
           
          1)機械過濾器定期反洗.反洗時進行壓縮空氣氣體摩擦,反洗合格后靜置10min左右再正洗,正洗出水合格后方可投入使用,勿將空氣帶入反滲透.在不影響sdi值的情況下,盡可能延長機械過濾器的運行時間,這樣既減少了切換過濾器對出水水質(zhì)的沖擊,又節(jié)約了大量反洗用水.
           
          2)定期檢查、及時更換精密過濾器濾芯,防止濾芯因安裝或質(zhì)量問題發(fā)生泄露所引起的反滲透膜的顆粒污染.當精密過濾器進口壓差大于0.15mpa時,應(yīng)更換濾芯.一般應(yīng)每月檢查一次,2~3個月更換一次濾芯.運行時還應(yīng)經(jīng)常檢查精密過濾器內(nèi)是否有氣體,不能讓空氣帶入反滲透膜.對備用或長期停運的精密過濾器,要采取加甲醛保護的方法防止細菌大量繁殖.
           
          3)高壓泵入口壓力應(yīng)到少大于0.05mpa,防止空氣或精密過濾器前截留物被高壓泵抽入反滲透膜.
           
          4)停用的反滲透膜應(yīng)定期低壓沖洗,尤其夏天,應(yīng)做到每班沖洗一次.如停運時間大于7天,應(yīng)采用0.5percent~1percent的亞硫酸氫鈉或0.5percent~1percent的甲醛溶液對反滲透膜進行保護.并應(yīng)及時檢測保護液的ph值和濃度.
           
          5)定期對給水水質(zhì)進行化驗分析,根據(jù)實際情況及時調(diào)整絮凝劑、殺 菌劑、還原劑及阻垢劑的加藥量.防止絮凝劑穿透過濾器與阻垢劑反應(yīng)影響阻垢效果,或污染反滲透膜;防止殺 菌劑用量不足而使反滲透膜受細菌污染,或因殺 菌劑過量而使膜被氧化;防止阻垢劑含量不足使?jié)馑Y(jié)垢而導致膜化學污染.
           
          6)當與初始投用狀態(tài)相比,標準化的反滲透裝置產(chǎn)水量下降10percent,或在特定條件下產(chǎn)水含鹽量明顯上升,或壓差增加了15percent時,應(yīng)對反滲透膜進行及時清洗.
           
          7)應(yīng)該及時調(diào)整濃水量,保持回收率75percent左右,應(yīng)既不能使?jié)馑形⑷茺}濃度超過溶度積而結(jié)垢,又不應(yīng)浪費水,即應(yīng)達到經(jīng)濟運行狀態(tài).
           
          二:純凈水生產(chǎn)設(shè)備的維護
           
          2.1 低壓沖洗
           
          定期對ro裝置進行大流量、低壓力、低ph值的沖洗有利于剝除附著在ro膜表面上的污垢,維持膜性能,或當進水sdi突然升高超過5.5以上時,應(yīng)進行低壓沖洗,待sdi值調(diào)到合格后再開機。
           
          2.2 停運保護
           
          由于生產(chǎn)的波動,ro裝置不可避免地要經(jīng)常停運,ro短期或長期停用時須采取保護措施,不適當?shù)靥幚頃䦟е履ば阅芟陆登也豢苫謴?fù)。
           
          短期保存適用于停運15d以下的ro系統(tǒng),可采用每1~3d低壓沖洗的方法來保護ro裝置。實踐發(fā)現(xiàn),水溫20℃以上時,ro裝置中的水存放3d就會發(fā)臭變質(zhì),有大量細菌繁殖。因此,建議水溫高于20℃時,每2d或1d低壓沖洗一次,水溫低于20℃時,可以每3d低壓沖洗一次,每次沖洗完后需關(guān)閉反滲透裝置上所有進出口閥門。
           
          長期停用保護適用于停運15d以上的系統(tǒng),這時須用保護液(殺 菌劑)充入反滲透裝置進行保護。常用殺 菌劑配方(復(fù)合膜)為甲醛10percent(質(zhì)量分數(shù))、異噻唑啉酮20mg/l、亞硫酸氫鈉1percent(質(zhì)量分數(shù))。
           
          以前常用的殺 菌劑配方是甲醛,因其具有便宜、易得的優(yōu)點,但近來出于對環(huán)保和人體健康的考慮,異噻唑啉酮逐漸被重視,但其在反滲透保護中的應(yīng)用尚未見報道。
           
          2.3 化學清洗
           
          在正常運行條件下,反滲透膜也可能被無機物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染,這些物質(zhì)沉積在膜表面上會引起反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高,甚到對膜造成不可恢復(fù)的損傷,因此,為了恢復(fù)良好的透水和除鹽性能,需要對膜進行化學清洗。
           
          一般3~12個月清洗一次,如果每個月不得不清洗一次,這說明應(yīng)該改善ro的預(yù)處理系統(tǒng),調(diào)整ro的運行參數(shù)。如果1~3個月需要清洗一次,則需要提高設(shè)備的運行水平,是否需要改進預(yù)處理系統(tǒng)較難判斷。
           
          三:純凈水生產(chǎn)設(shè)備
           
          純凈水設(shè)備主要技術(shù)就是RO技術(shù)因具有特殊的優(yōu)越性而得到日益廣泛的應(yīng)用。但是ro系統(tǒng)的運行維護問題有可能使許多技術(shù)力量不強的用戶遭受損失,所以要做好管理,及時發(fā)現(xiàn)運行參數(shù)的變化并調(diào)整設(shè)備運行工況,就可以避免出現(xiàn)嚴重的問題,確保ro系統(tǒng)長期、安 全、穩(wěn)定地運行。

          本文鏈接:http://m.modelling.cn/shuichulijishu/31.html
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