去離子水處理裝備工藝選型有哪些

新工藝一：

原水(設(shè)有壓力掩護(hù))→增壓泵→砂過(guò)濾器→炭過(guò)濾器→硬化器(依據(jù)地區(qū)分歧選 用)→周詳過(guò)濾器→中央水箱→RO前水泵→周詳過(guò)濾器→RO高壓泵→RO反滲透體系→RO水箱→RO水增壓泵→混床→終端周詳過(guò)濾→裝備用水(水質(zhì)能夠到達(dá)10MΩ.cm以上即0.06μs/㎝如下,25℃)。

新工藝二：

原水(設(shè)有壓力掩護(hù))→增壓泵→砂過(guò)濾器→炭過(guò)濾器→硬化器(依據(jù)地區(qū)分歧選 用)→周詳過(guò)濾器→中央水箱→RO前水泵→周詳過(guò)濾器→RO高壓泵→RO反滲透體系→RO水箱→RO水增壓泵→通俗混床→拋光混床→終端周詳過(guò)濾→裝備用水(水質(zhì)能夠到達(dá)18MΩ.cm以上即0.056，μs/㎝如下,25℃)。

新工藝三：

原水(設(shè)有壓力掩護(hù))→增壓泵→砂過(guò)濾器→炭過(guò)濾器→硬化器(依據(jù)地區(qū)分歧選 用)→周詳過(guò)濾器→中央水箱→RO前水泵→周詳過(guò)濾器→RO高壓泵→RO反滲透體系→RO水箱→RO水增壓泵→EDI電去離子主機(jī)→終端周詳過(guò)濾→UV紫外線殺 菌→裝備用水(水質(zhì)能夠到達(dá)16MΩ.cm以上即0.062 μs/㎝如下,25℃)。

新工藝四：

原水(設(shè)有壓力掩護(hù))→增壓泵→砂過(guò)濾器→炭過(guò)濾器→硬化器(依據(jù)地區(qū)分歧選 用)→周詳過(guò)濾器→中央水箱→RO前水泵→周詳過(guò)濾器→RO高壓泵→RO反滲透體系→RO水箱→RO水增壓泵→EDI電去離子主機(jī)→去離子水箱→去離子水泵→拋光混床→終端周詳過(guò)濾→UV紫外線殺 菌→裝備用水(水質(zhì)能夠到達(dá)18MΩ.cm以上即0.055μs/㎝如下,25℃)。

新工藝五：

原水(設(shè)有壓力掩護(hù))→增壓泵→砂過(guò)濾器→炭過(guò)濾器→硬化器(依據(jù)地區(qū)分歧選 用)→周詳過(guò)濾器→中央水箱→一級(jí)RO高壓泵→一級(jí)RO反滲透體系→RO水箱→二級(jí)RO高壓泵→二級(jí)RO水箱→增壓泵→EDI(CEDI)電去離子水主機(jī)→去離子水箱→去離子水泵→拋光混床→終端周詳過(guò)濾→UV紫外線殺 菌→裝備用水(水質(zhì)能夠到達(dá)18MΩ.cm以上即0.055 μs/㎝如下,25℃)。